一、一种新的光学薄膜元件——多通道带通滤光片（论文文献综述）
张立宇[1]（2021）在《基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究》文中研究说明为了满足航天遥感技术集成化、微型化和更多光谱通道的发展需求,结构紧凑且分光能力更强的多通道滤光片应运而生,各种多通道滤光片制备技术也不断问世。但现有的多通道滤光片光谱范围大多集中于可见光与近红外波段,而针对中红外波段的多通道滤光片则鲜有报道。并且受限于制备技术,多通道滤光片的光谱性能与微型化程度也有待提高。本文采用集光刻、镀膜与剥离工艺于一体的组合镀膜技术,进行3.55-3.75μm与4.85-4.95μm中红外集成双通道滤光片的研制。研究内容包括双通道滤光片总体研制方案的设计,双通道滤光片的膜系设计,负性厚胶光刻优化实验,双通道滤光片的制备、测试与分析。具体研究成果总结如下:（1）薄膜材料优选与镀膜工艺优化:选取性能优良、应力匹配良好的Ge与ZnS作为中红外双通道滤光片高低折射率膜料,并分别对两种膜料进行单层膜工艺实验,获得了镀膜工艺的稳定区间与最优工艺下的薄膜色散关系。（2）带通滤光片的膜系设计与优化:采用多腔F-P滤光片的基础膜系与局部优化方式,进行3.55-3.75μm与4.85-4.95μm带通滤光片的膜系设计与优化。获得了通带透射率接近99.9%、截止度为OD4、矩形度良好、通带半宽度符合要求的膜系设计结果,并确定了光电极值监控法的监控波长。（3）负性厚胶光刻优化实验:为了使膜层厚度较大的中红外带通滤光片成功剥离,选取了合适的负性厚胶进行了光刻优化实验,通过优化各工艺阶段的工艺参数,得到了光刻胶的理想“倒八字”结构。（4）集成双通道滤光片的制备:通过两次光刻、两次镀膜与两次剥离工艺,成功制备了 3.55-3.75μm与4.85-4.95μm集成双通道滤光片,验证了工艺兼容性。（5）双通道滤光片性能测试与分析:对双通道滤光片光谱性能进行测试,其中3.55-3.75μm带通滤光片通带平均透过率为83.8%,通带半宽度为274nm;4.85-4.95μm带通滤光片通带平均透过率为83.5%,通带半宽度为246nm;4.0-4.6μm波段截止深度为OD=3。并利用膜层厚度反演法进行透射率误差仿真分析,分析结果表明通带透射率降低的主要原因是由于间隔层的厚度误差导致F-P腔错位,通带波纹的产生是由于膜系匹配层的镀制误差。对双通道滤光片的接缝精度进行测量,得到双通道滤光片的光谱无效区为4.5μm。双通道滤光片的测试结果满足了预期指标。本文所制备的集成双通道滤光片阵列结构紧凑、光谱性能优良、稳定性良好,为多通道滤光片的制备提供了一种新的技术途径。
陈旭,吴智勇,赵新潮,周兴雷,王丁[2]（2020）在《中红外双通道滤波器的研制》文中指出针对中红外目标探测需求,采用多个截止带拼接的设计方法,结合TFCal膜系设计软件优化各个膜层厚度,得到了中红外双通道滤波器膜系。通过对膜系敏感层的分析,将总膜系分成两个膜系进行镀膜,成功制备出2.7～3.0μm和4.1～4.4μm双通道滤波器。得到的样品在2.7～3.0μm波段平均透过率为73%,在4.1～4.4μm波段平均透过率为81%。该方法提高了膜系设计效率,减少了膜层数和总厚度,可解决膜系过厚带来的开裂和脱膜等问题,节约了镀膜时间和成本。
王松林,米高园,张建付,杨崇民,刘青龙,王颖辉,韩俊[3]（2017）在《中波红外双通道带通滤光片的研制》文中研究说明采用在单晶锗基底的两面分别设计中波红外带通滤光膜和中波红外负滤光膜的方法,设计了一种光谱性能优良的中波红外双通道带通滤光片。以适当的工艺技术完成了膜层的制备,并测试了实验样片的红外透射率光谱。结果显示,制备的中波红外双通道带通滤光片的通带透过率以及截止带截止深度均良好。由实验结果分析可知,镀膜材料蒸发角的变化和各层膜厚误差的累积,是导致实验片的测试光谱在截止带内出现两个较强的次峰,以及中间截止带略微偏移的主要原因。
蔡渊[4]（2017）在《红外双色滤光片的研制及其低温光谱研究》文中指出在光学遥感领域,遥感仪器有着向小型化、轻量化和集成化发展的趋势,采用同一光路上的双色探测技术,是适应这一发展趋势的有力技术手段之一。双色滤光片是实现双色探测技术的重要光谱元件,它能在同一通光孔径内的同一几何点上通过两个光谱通道的光学能量,并完全抑制其它光谱。本文的主要目标,是研制出初步满足空间遥感应用要求的红外双色滤光片样品,并对其低温光谱进行研究,得到低温下的准确光谱。对于任何干涉式滤光片的研制,其首要任务是设计出合理的多层干涉膜的膜系。滤光片膜系设计的方法有多种,例如自动优化设计、缓冲层和组合膜系设计、加厚间隔层的Fabry-Perot（F-P）膜系设计、多次重复双峰结构F-P膜系设计,以及具有分形结构的F-P膜系设计等,但它们并不适合于进行中心波长在2.95μm、4.41μm,带宽均为中心波长0.09倍的双色滤光片的设计。因此提出了一种基于组合法F-P的双色滤光片设计方法。这种方法可以互不干扰的对双色滤光片的两个通带进行独立设计,通带宽度和位置方便调控,有效解决了较宽通带和较大通道间距的双色滤光片的设计问题。并且设计出的膜系和其它膜系设计方法相比更为简洁,有较强的可实施性。论文介绍了膜层沉积的方法和主要工艺。膜厚监控采用了适用于单波长直接光学监控的一种光学极值比例的监控策略。实施这种监控策略的主要原因是为了确保有较大消光系数材料Ge在该波段红外区域有足够的监控精度。针对这种监控策略,进行了膜系的调整,设计的膜层总数为34层,并设计出了能够满足监控策略要求的监控曲线。按照此监控曲线进行了膜层的沉积,最终研制出了满足要求的样品,其测试光谱显示:双色滤光片短波通道平均透过率大于84%,长波通道的平均透过率大于88%;两个通道的四个通带边缘的陡度分别为:1.4%、2.8%、1.9%和1.7%。膜层厚度的误差是导致样品实测光谱曲线和理论设计不一致的主要原因。为此,分析了误差的来源,以及采用透过率监控膜厚而产生误差的机理。分析了膜系整体存在随机误差时,对不同类型膜系光谱的影响,以及特定膜层厚度误差对膜系光谱性能的影响。通带顶部的透过率是最关键的性能指标,论文采用通带顶部最大透过率偏差以及通带顶部平均透过率偏差,来评估不同膜层误差对于滤光片光谱性能的影响。对沉积于基片两侧的组成双色滤光片的单通道滤光膜进行了随机光谱误差分析,并结合样品实测光谱进行了双色滤光片的光谱误差分析。红外双色滤光片是在低温条件下使用的,因此对其低温特性进行了研究。介绍了低温光谱测试装置,通过对单层Ge和SiO膜的常温和低温（100K）测试光谱,获得其光学常数以及膜厚从常温到低温的变化情况,计算得到了Ge和SiO膜层的光学常数的温度系数。结合具体膜系,得到低温（100K）条件下的光谱漂移量,结合滤光片样品的多次生长和测试工作,为不同类型和技术要求红外双色滤光片低温光谱的确立,提供了参考依据。
吴正[5]（2016）在《基于多光谱成像技术的宫颈细胞DNA定量分析》文中指出统计数据表明,近年来发展中国家的宫颈癌新发病例数量呈上升趋势且发病年龄呈年轻化趋势,而进行宫颈癌早期筛查诊断对降低患者的发病率和死亡率具有重要意义。我国的宫颈癌筛查工作由于起步晚,各地区经济发展水平的不均衡以及细胞病理学医师数量和水平方面差异,使我国大规模进行宫颈癌筛查遇到严重的障碍。因此,一种自动化程度高、特异性和敏感性高、可大规模推广的宫颈癌筛查技术具有迫切的现实需求。目前我国常用的宫颈癌筛查方法有,细胞学检查、HPV-DNA检测、肉眼观察法和DNA定量分析方法。细胞学检查最常用的是TBS分类方法,但其依赖于细胞学医师进行人工阅片,工作强度高且效率低下。HPV-DNA检测虽然特异性和敏感性高,但人均成本高,难以大规模推广。肉眼观察法多是作为经济不发达地区一生一次的筛查,其成本低但特异性也较低。DNA定量分析方法是近年来发展起来的一种新型检测方法,其具有扫描速度快、敏感性高、自动化程度高等优点,但扫描报告不够直观,人机交互性差。本文提出了一种能够在一张细胞涂片上同时使用TBS分类法和DNA定量分析方法的新的宫颈肿瘤细胞筛查方法。两种方法同时独立分析、互不干扰,分析结果能够互补,极大的提高了诊断的准确率。新方法综合了两种筛查方法的优点,而又克服了两者的缺点,这对于我国宫颈癌筛查的大规模推广具有很好的应用价值和现实意义。将TBS分类法和DNA定量分析两种分析方法结合在同一个细胞涂片上进行分析的难点在于,复染环境下的吸光度混叠干扰问题。本文在实验室承担的十五攻关项目形成的高新技术成果——宫颈癌早期诊断DNA细胞图像分析系统的基础上,建立了一套基于多光谱成像分析技术的全新的宫颈细胞筛查分析系统。我们建立了一套专门用于复染细胞涂片进行成像的多光谱成像硬件分析平台,并建立了一套复染环境中多种吸光物质混叠的吸光度剥离方法；在此基础上,利用多光谱图像解混叠矩阵模型实现了多个单色光的图像传感器的响应的解混叠,并建立了基于多通道窄带滤光片和彩色CMOS图像传感器的实时多光谱成像系统。本文的研究工作主要包括：1.综述了常用宫颈癌筛查方法,提出了在一张细胞涂片能同时使用TBS分类法和DNA定量分析方法的新的宫颈肿瘤细胞筛查方法。新方法实现了两种常规宫颈癌筛查方法的有机结合,提高了诊断的准确率,具有很好的应用价值和现实意义。2.基于吸光度线性叠加原理和多元线性回归方法,建立了复染环境下的吸光度剥离矩阵模型。通过模型的矩阵运算从混叠的吸光度中剥离出DNA的吸光度用于测量细胞核的DNA含量,为宫颈肿瘤细胞筛查提供依据。3.搭建了一套多光谱成像系统用于建立吸光度剥离矩阵模型,设计了一套获取吸光度剥离矩阵模型参数的流程。模型参数的准确性对吸光度矩阵剥离运算的准确性至关重要,对参数进行归一化处理,实际上是对吸光物质的各个光谱波段的摩尔吸光系数的归一化处理,这样可以最大限度的排除光源的稳定性、光照条件以及染色程度等因素的影响。4.基于在实际应用中新的筛查方法的实时性和实用性的要求,通过分析多光谱成像技术的成像特点、各种分光器件的特点、以及CCD和CMOS图像传感器的异同,建立了一个基于多通道窄带滤光片和彩色CMOS图像传感器的多光谱图像解混叠矩阵模型。该模型能够对多个入射单色光的混叠的图像传感器响应进行解混叠矩阵运算处理,剥离成各个入射光的单波段图像。使用该模型提高了筛查方法的分析速度,具有较高的实时性和实用性。5.设计了基于FPGA的实时多光谱成像系统的硬件电路系统。在FPGA内部设计了多个模块分别实现对图像传感器输出的图像数据进行捕捉、拼接、插值解码、多光谱矩阵剥离运算、图像传输等各种功能,这些模块使用Verilog HDL语言设计,能够实现图像数据的多路并行、流水线处理。通过硬件算法进行图像数据处理提高了效率,满足了新的筛查方法在实际应用中的实时性和实用性的要求。6.在检验水平为99%时,通过实验验证了：全波段吸光度剥离矩阵模型的测量值与实际值没有显着差异；3波段（490-560-650nm）吸光度剥离矩阵模型全波段的测量结果没有显着差异；多光谱图像解混叠矩阵模型的准确性。并通过7组病例的多光谱成像的DNA定量分析和单波段DNA定量分析方法的测量数据比较,结果表明虽然基于多光谱成像的DNA定量分析方法的二倍体细胞和四倍体细胞的离散系数（DI均值／标准差）比单波段的大,但是两种方法的二倍体细胞的DI值之间相差很小、四倍的细胞的DI值也是一样。总体来说,基于多光谱成像技术的DNA定量分析方法与单波段的具有同等的准确度和可靠性。
付秀华,张于帅,寇洋,李旭娜[6]（2015）在《自由空间激光通信系统中多通道滤光膜的研制》文中进行了进一步梳理激光通信作为一种通信手段,以其抗干扰能力强、保密性好、功率集中等优点,在军事和民用等领域得到广泛应用。为满足激光通信系统使用要求,提高信噪比,对系统中的滤光膜进行研制。选用Ti3O5和Si O2作为镀膜材料,依据倍频设计和双波长增透原理完成了三带通、宽反射带滤光膜的设计。通过膜厚缩放比例和逆向工程方法分析膜厚累积误差,重点解决了膜厚监控误差大的问题。制备的滤光膜在532 nm和1064 nm处透射率大于90%,808 nm处透射率大于85%,（1550±20）nm处透射率小于0.4%,满足该系统环境测试要求。
陈友华,王志斌[7]（2010）在《探测用宽截止红外双通道帯通滤光片的设计及误差分析》文中研究表明为满足探测1,2丙二醇二硝酸脂有毒气体浓度的红外探测元件抑制带截止深度深、通带内平均透射比高、波纹系数小等要求,采用等效折射率理论与局部优化相结合的设计方法,选用PbTe/ZnSe作为高低折射材料,采用长波通膜系、短波通膜系以及双半波膜系设计了截止深度深、双通道、通带宽度合适的红外滤光片,通带分别为5.9～6.2μm及11.9～12.2μm,通带内平均透射比分别在90%及65%以上;对所设计的膜系进行了薄膜物理厚度和膜层折射率的误差分析。分析表明,薄膜制备时沉积速率精度应控制在3.5%以内,材料折射率的变化应控制在3%以内,与膜层折射率相比,薄膜物理厚度对平均透射比的影响小,并且双半波膜系对厚度以及折射率变化更敏感。
段玉华[8]（2009）在《光学薄膜窄带滤波器的设计方法研究》文中研究说明随着光通信等行业对光学薄膜型滤波器件的要求越来越高,光学薄膜的设计正面临新的挑战。光学介质薄膜窄带滤波器要求有极低的插入损耗,极小的波纹,高隔离,优良的热能和环境稳定性等,在设计中要考虑这些因素。论文较系统的研究了光学薄膜窄带滤波器件的设计方法,设计了几种类型的薄膜,探讨了一种优化能力强的设计方法,主要涉及以下几个方面内容:首先,介绍了光通信用光学薄膜型滤波器件的发展现状,论述了光学薄膜设计方法的国内外研究现状和发展趋势。分析了影响光谱特性的因素和解决方法。给出光学薄膜设计的理论基础,推导出了薄膜系统的反射和透射率的数学计算公式,并导出多层膜的特征矩阵,为后面的薄膜优化设计做了必要的理论准备。其次,研究了窄带滤波器常用的两种解析设计方法,比较它们之间的优劣并研究其分别适用的领域。用这两种方法分别设计了单腔、双腔和多腔窄带滤光片。并指出随着设计难度的增加,这两种设计方法的不足。最后,分析了窄带滤波器的膜系结构特点,以及影响其光谱特性的因素。将模拟退火遗传算法应用于滤波器膜系的优化设计中。通过分析计算膜系的特征矩阵,建立了对膜系结构敏感的适应度函数,并在多腔后加一反射层来减小通带的波纹。以分插复用3-skip-1 100 GHz滤波器为例,来设计通带带宽和截止带宽等各项指标满足设计要求的窄带滤波器。
王庆[9]（2006）在《短波通滤光片的研究》文中研究指明在彩色电视、电影、印刷等彩色分光系统中要使用二向色镜，它是一种使红光反射、绿光透射的截止滤光片。为了使绿光高增透，红光高反射，本论文从实际需要出发，结合现有的条件和技术，设计并制造出了满足监控波长是650nm，在400—510nm波段都是高增透，在600—640nm波段高截止的滤光片。我们首先从薄膜光学理论入手，系统地分析了薄膜知识，对薄膜的反射率和透射率进行了系统研究，进行了膜系设计；其次，对所需膜料的性能理化参数进行分析，考虑到膜层匹配等问题确定了膜料：再利用计算机进行了仿真找出最佳的设计方案确定出该滤光片的实际工艺参数；在蒸镀过程中，考虑了不同工艺参数对膜层性能所产生的影响，及时采取了相应的措施，如过程控制等等；对镀制的结果进行了较系统的误差分析，并提出了减小误差的办法。对滤光片结果检测为：该滤光片在380—510nm范围内达到了高增透，且平均透射率达到了85％以上；在550—640nm范围内达到了高截止的要求，其最大透射率达到了1％以下；为进一步评价截止滤光片在从通带向截止带过渡的特性，引入过渡区斜率作为一个新的评价参数即截止波长处的斜率，经测量各项指标均达到了设计要求。文中给出了Balzers BAK 600型镀膜机制作滤光片的工艺过程。
郭爱云[10]（2006）在《以Ti2O3为膜料反应蒸发制备TiO2光学薄膜的研究》文中指出在光学薄膜制备中,TiO2是常用的高折射率材料。在采用蒸发法制备TiO2光学薄膜的工艺时,TiO2薄膜的光学特性强烈依赖于薄膜的制备工艺。采用电子束蒸发法和溅射法制备的TiO2光学薄膜一般为非晶态薄膜,并且随工艺不同,材料在薄膜中的状态以及结构不同将直接影响薄膜的各项性能。 钛元素在自然界中存在多种价态的氧化物,如:Ti2O,TiO,Ti2O3,Ti3O5,Ti4O7,TiO2等,在蒸发气相中存在Ti,TiO,TiO2,O和O2。在Ti—O系固态材料中,TiO,Ti2O3,Ti3O5和TiO2常被作为蒸发法的蒸发源物质。由于在蒸发过程中,气相中蒸发源物质将发生分解,形成偏离化学计量比的化合物,从而使薄膜的吸收增强,透射性能降低。因此,只有在氧或者氧离子辅助的情况下,采用低价态Ti的氧化物才可能得到较好性能的TiO2薄膜,并且薄膜的性能与蒸发源物质有强烈的依存关系。 在ZZS700—6/G电子束蒸发镀膜系统上增加氧（纯度99.99%）离子源辅助镀膜设备后,采用低价态氧化物Ti2O3作为蒸发材料制备光学用的氧化钛薄膜。考察了离子源的各项参数、通入O2的流量和退火处理对薄膜结构和光学性能的影响。同时采用XRD对不同的蒸发源物质与蒸发剩余物质进行了详细的研究和对比,分析了材料的蒸发过程对薄膜的形成和性能的影响。 用UV755B型分光光度计测试了薄膜的透射光谱,并通过干涉极值计算方法获得了薄膜的折射率等参数。实验表明,以Ti2O3作为蒸发源物质时,薄膜具有强烈的吸收,离子源辅助有利于形成高价态氧化物。但是,随着薄膜厚度的增加,离子源的作用变得不明显。采用TiO2作为蒸发源物质时,薄膜具有较好的光学性能,在可见光范围内薄膜的折射率变化在2.23—2.73,离子源工艺对薄膜的光学性能影响不大。通过对蒸发物质蒸发行为的研究发现,在Ti—O系中存在同一蒸发相Ti3O5,蒸发物质经过蒸发后最终将以此相相同的成分蒸发。退火处理有利于介稳态的薄膜形成稳定的晶态结构,从而提高薄膜的透射率和稳定性。
二、一种新的光学薄膜元件——多通道带通滤光片（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、一种新的光学薄膜元件——多通道带通滤光片（论文提纲范文）
（1）基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.1.1 多光谱航天遥感技术 |
| 1.1.2 分光方式的发展 |
| 1.2 多通道滤光片研究现状 |
| 1.3 课题的主要工作 |
| 1.3.1 研究目的与内容 |
| 1.3.2 课题方案与技术路线 |
| 1.4 论文章节安排 |
| 2 相关理论基础与工艺技术 |
| 2.1 带通滤光片理论基础 |
| 2.2 真空镀膜原理 |
| 2.2.1 真空系统 |
| 2.2.2 薄膜沉积系统 |
| 2.2.3 膜厚监控系统 |
| 2.2.4 离子源系统 |
| 2.3 负性厚胶光刻技术 |
| 2.3.1 基片清洁 |
| 2.3.2 匀胶工艺 |
| 2.3.3 烘烤工艺 |
| 2.3.4 曝光工艺 |
| 2.3.5 显影工艺 |
| 2.4 剥离技术(lift-off)原理 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 带通滤光片的膜系设计 |
| 3.1 薄膜与基底材料优选 |
| 3.2 单层膜工艺实验 |
| 3.2.1 Ge单层膜工艺实验 |
| 3.2.2 ZnS单层膜工艺实验 |
| 3.3 膜系设计与优化 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 负性厚胶光刻优化实验 |
| 4.1 匀胶工艺优化实验 |
| 4.1.1 匀胶厚度的控制 |
| 4.1.2 边胶去除与匀胶程序设计 |
| 4.2 烘烤工艺优化实验 |
| 4.3 曝光工艺的优化 |
| 4.3.1 曝光时间对光刻胶台阶形貌的影响 |
| 4.3.2 曝光时间对光刻胶透过率的影响 |
| 4.4 显影工艺的优化 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 集成双通道滤光片的制备与测试 |
| 5.1 集成双通滤光片的制备 |
| 5.2 测试结果与分析 |
| 5.2.1 双通道滤光片光谱性能测试与误差分析 |
| 5.2.2 双通道滤光片接缝精度测试 |
| 5.2.3 双通道滤光片稳定性测试 |
| 5.3 本章小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 |
| 致谢 |
（3）中波红外双通道带通滤光片的研制（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 膜系设计 |
| 2.1 材料选择 |
| 2.2 双通道带通滤光片结构分解 |
| 2.3 膜系设计 |
| 3 膜层沉积工艺 |
| 4 结果与分析 |
| 5 结论 |
（4）红外双色滤光片的研制及其低温光谱研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 引言 |
| 1.1 双色或多色滤光器件 |
| 1.1.1 轮转滤光片组件 |
| 1.1.2 集成多个通道的阵列滤光片 |
| 1.1.3 可调制的滤光器件 |
| 1.1.4 多色或双色干涉滤光片 |
| 1.2 双色探测器和双色滤光片组合的红外探测技术 |
| 1.2.1 双色探测技术的应用 |
| 1.2.2 红外双色探测器 |
| 1.2.3 红外双色滤光片 |
| 1.3 本论文工作概述 |
| 1.3.1 本论文工作的意义 |
| 1.3.2 本论文主要内容 |
| 2 双色滤光片的设计 |
| 2.1 自动优化设计 |
| 2.2 缓冲层和组合膜系设计 |
| 2.3 F-P膜系为基础的设计 |
| 2.3.1 波峰的多次重复 |
| 2.3.2 厚间隔层的F-P膜系 |
| 2.3.3 分形结构的F-P膜系 |
| 2.4 基于组合F-P膜系的双色滤光片设计 |
| 2.4.1 基础F-P膜系的确定 |
| 2.4.2 双色滤光片的设计 |
| 2.4.3 通道带宽的调整 |
| 2.4.4 通道间距离分析 |
| 2.5 小结 |
| 3 双色滤光片的制备 |
| 3.1 薄膜沉积设备介绍 |
| 3.2 研制工艺 |
| 3.2.1 膜层沉积工艺 |
| 3.2.2 工艺要求 |
| 3.2.3 工艺流程 |
| 3.3 膜层的光学特性 |
| 3.3.1 光学常数测试方法 |
| 3.3.2 光学常数测试结果 |
| 3.3.3 膜层光能损耗 |
| 3.4 膜厚监控方法 |
| 3.4.1 膜厚的晶振控制 |
| 3.4.2 膜厚的光学监控 |
| 3.4.3 其它监控方法 |
| 3.5 双色滤光片工艺实现 |
| 3.5.1 用于实际监控的膜系设计 |
| 3.5.2 确定监控方法 |
| 3.5.3 监控策略分析 |
| 3.5.4 监控实施和实际的膜层沉积效果 |
| 3.6 小结 |
| 4 膜厚误差分析 |
| 4.1 误差来源 |
| 4.1.1 厚度误差 |
| 4.1.2 光学常数误差 |
| 4.2 监控误差导致膜厚误差的机理 |
| 4.3 误差对设计膜系的光谱性能影响 |
| 4.3.1 随机误差光谱影响 |
| 4.3.2 不同膜层对膜系整体光谱的影响 |
| 4.4 双色滤光膜系的误差分析 |
| 4.5 小结 |
| 5 滤光片低温光谱研究 |
| 5.1 温度对膜层材料物理特性影响 |
| 5.2 光学常数温度特性测试方法 |
| 5.3 低温光谱测试设备 |
| 5.4 单层膜低温光谱测试 |
| 5.5 膜层材料的低温光学常数拟合 |
| 5.6 双色滤光片低温光谱模拟 |
| 5.7 小结 |
| 6 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.1.1 研究过程 |
| 6.1.2 主要结果 |
| 6.1.3 主要创新点 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 |
（5）基于多光谱成像技术的宫颈细胞DNA定量分析（论文提纲范文）
| 创新点 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.1.1 宫颈癌的病因 |
| 1.1.2 国内外的宫颈癌筛查历史与现状 |
| 1.1.3 宫颈癌的主要筛查方法 |
| 1.1.4 多光谱成像技术 |
| 1.2 研究现状 |
| 1.2.1 细胞DNA定量分析技术的发展与研究现状 |
| 1.2.2 多光谱成像技术在细胞DNA定量分析中的应用 |
| 1.3 本文的研究目的、意义和论文结构 |
| 1.3.1 研究目的及意义 |
| 1.3.2 论文结构 |
| 2 基于多光谱成像的细胞DNA定量分析的相关原理 |
| 2.1 生物学基础 |
| 2.1.1 细胞生长周期 |
| 2.1.2 DNA指数 |
| 2.2 线性代数相关理论 |
| 2.2.1 克莱姆法则 |
| 2.2.2 矩阵的概念 |
| 2.2.3 矩阵的秩与逆矩阵 |
| 2.3 多元线性回归 |
| 2.4 吸光度剥离原理与模型 |
| 2.5 光生伏特效应 |
| 2.6 多光谱成像原理与多光谱图像解混叠矩阵模型 |
| 2.7 小结 |
| 3 实时多光谱成像系统的设计 |
| 3.1 显微光学成像系统 |
| 3.1.1 生物显微镜 |
| 3.1.2 照明系统 |
| 3.1.3 三维自动平台 |
| 3.2 分光器件和图像传感器 |
| 3.2.1 分光器件 |
| 3.2.2 图像传感器 |
| 3.2.3 多光谱成像的方案设计与器件选择 |
| 3.3 吸光度剥离矩阵模型的建立 |
| 3.3.1 建立吸光度剥离矩阵模型的多光谱成像系统的结构及组成 |
| 3.3.2 成像系统中的传递函数 |
| 3.3.3 工作流程 |
| 3.3.4 矩阵参数的获取 |
| 3.4 多光谱图像解混叠矩阵模型的建立 |
| 3.4.1 建立多光谱图像解混叠矩阵模型的硬件构成 |
| 3.4.2 多光谱图像解混叠矩阵模型的参数确定 |
| 3.5 小结 |
| 4 实时成像与解混叠系统的设计 |
| 4.1 硬件系统设计结构 |
| 4.1.1 图像数据接口 |
| 4.1.2 USB接口 |
| 4.1.3 USB固件及应用程序开发 |
| 4.2 FPGA设计 |
| 4.2.1 FPGA总体设计 |
| 4.2.2 FPGA内部各模块设计 |
| 4.3 图像同步获取与解混叠系统流水线分析 |
| 4.4 小结 |
| 5 系统性能测试 |
| 5.1 吸光度多光谱剥离模型测试 |
| 5.1.1 实验方法及条件 |
| 5.1.2 实验结果 |
| 5.2 多光谱图像解混叠矩阵模型 |
| 5.2.1 实验方法及条件 |
| 5.2.2 实验结果 |
| 5.3 多光谱DNA定量分析与常规DNA定量分析的对比 |
| 5.3.1 实验目的与流程 |
| 5.3.2 实验结果 |
| 5.4 小结 |
| 6 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 本文的创新点 |
| 6.3 展望 |
| 参考文献 |
| 攻博期间参与的科研项目、发表的科研成果 |
| 致谢 |
（7）探测用宽截止红外双通道帯通滤光片的设计及误差分析（论文提纲范文）
| 1 引 言 |
| 2 长波红外双通道帯通滤光片的设计 |
| 3 计算结果 |
| 4 通带内波纹的压缩 |
| 5 误差分析 |
| 5.1 膜厚误差对透射比及中心波长的影响 |
| 5.2 折射率误差对透射比及中心波长的影响 |
| 6 结 论 |
（8）光学薄膜窄带滤波器的设计方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 光学薄膜设计方法的发展历史和现状 |
| 1.3 光学薄膜型波分复用器件 |
| 1.4 光分插复用连接器 |
| 1.4.1 OADM 在 WDM 通信技术发展中的作用 |
| 1.4.2 OADM 功能结构分类 |
| 1.5 论文的研究目的与意义 |
| 1.6 论文的主要内容 |
| 第2章 光学薄膜设计的基本理论 |
| 2.1 薄膜光学系统的理论分析基础 |
| 2.1.1 介质中的电磁波 |
| 2.1.2 导纳方程 |
| 2.1.3 光波在介质界面上的反射与折射 |
| 2.1.4 光学薄膜的特征矩阵 |
| 2.1.5 光学膜系的光学性质 |
| 2.2 光学膜系优化设计的基本原理 |
| 2.3 本章小结 |
| 第3章 窄带滤波器的两种设计方法 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 法布里-珀罗滤光片 |
| 3.2.1 单腔滤光片 |
| 3.2.2 多腔滤光片 |
| 3.3 史密斯方法 |
| 3.4 等效周期法 |
| 3.5 解析设计方法的不足 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 遗传模拟退火算法设计膜系 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 遗传模拟退火算法概述 |
| 4.2.1 遗传算法概述 |
| 4.2.2 遗传算法基本原理的研究与分析 |
| 4.2.3 遗传算法与其它搜索方法的比较 |
| 4.2.4 遗传算法在应用中的主要缺陷 |
| 4.2.5 模拟退火算法 |
| 4.2.6 遗传算法与模拟退火算法的结合 |
| 4.3 优化处理过程 |
| 4.3.1 窄带滤光片结构分析 |
| 4.3.2 3-skip-1 滤波器 |
| 4.3.3 理论模型 |
| 4.3.4 优化设计 |
| 4.4 设计结果 |
| 4.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
（9）短波通滤光片的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 光学薄膜的发展历史与现状 |
| 1.2 本课题研究背景 |
| 1.3 滤光片的分类 |
| 1.4 本课题的研究内容、目标及意义 |
| 第2章 薄膜光学的理论基础 |
| 2.1 薄膜光学引言 |
| 2.2 薄膜干涉 |
| 2.2.1 双光束干涉 |
| 2.2.2 多光束干涉 |
| 2.3 电磁理论基础 |
| 2.3.1 麦克斯韦方程组 |
| 2.3.2 光学导纳的推导 |
| 2.3.3 边界条件 |
| 2.3.4 菲涅尔公式 |
| 2.4 薄膜反射率与透射率的计算 |
| 2.4.1 单一界面的反射率 |
| 2.4.2 单一界面的透射率 |
| 2.4.3 有效导纳的引入 |
| 2.4.4 干涉矩阵 |
| 2.4.5 单层膜系的反射率 |
| 2.4.6 多层膜系的反射率 |
| 2.5 对称多层膜和赫平折射率 |
| 2.6 赫平折射率用于λ/4多层膜 |
| 2.7 通带的透射率 |
| 2.8 通带波纹的压缩 |
| 2.9 本章小结 |
| 第3章 短波通滤光片的膜系设计 |
| 3.1 参数要求 |
| 3.2 膜料的光学性质及选择 |
| 3.3 膜系设计 |
| 3.3.1 短波通滤光片理论上的参数 |
| 3.3.2 短波通滤光片周期数的确定 |
| 3.3.3 多层膜透射率的计算 |
| 3.3.4 通带波纹的压缩 |
| 3.3.5 计算机仿真 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 短波通滤光片的镀制 |
| 4.1 真空镀膜机原理及实验装置 |
| 4.1.1 电子束加热蒸发 |
| 4.1.2 膜厚监控原理 |
| 4.2 基片的清洗 |
| 4.3 短波通滤光片制作的工艺过程 |
| 4.4 短波通滤光片测试结果 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 误差成因 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 介质色散引起的误差 |
| 5.3 电解质的吸收和膜层的清洁度产生的误差 |
| 5.4 表面粗糙度的影响 |
| 5.5 光线斜入射及测量引起的误差 |
| 5.6 制造过程中产生的误差 |
| 5.7 环境误差 |
| 5.8 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 |
| 致谢 |
（10）以Ti2O3为膜料反应蒸发制备TiO2光学薄膜的研究（论文提纲范文）
| 第1章 绪论 |
| 1.1 光学薄膜概论 |
| 1.1.1 光学薄膜的原理与概念 |
| 1.1.2 光学薄膜的应用与实例 |
| 1.2 光学薄膜制备技术 |
| 1.2.1 真空蒸发法制备光学薄膜 |
| 1.2.2 真空溅射法制备薄膜 |
| 1.3 TiO_2薄膜的制备技术进展 |
| 1.4 本课题的立题及主要工作 |
| 第2章 离子束辅助沉积镀膜技术 |
| 2.1 气体放电与等离子体 |
| 2.1.1 钨阴极 |
| 2.1.2 离子的引出系统 |
| 2.2 Kaufman离子源 |
| 第3章 Ti-O系化合物 |
| 3.1 复杂的Ti-O系化合物 |
| 3.2 膜料的选择 |
| 3.2.1 同一蒸发工艺 |
| 3.2.2 钛-氧系里的同一蒸发相 |
| 3.3 TiO_2的晶体结构 |
| 第4章 薄膜的制备 |
| 4.1 实验设备 |
| 4.2 薄膜制备工艺 |
| 4.3 检测与设备 |
| 第5章 薄膜的性能检测与工艺分析 |
| 5.1 薄膜光学特性的检测 |
| 5.1.1 光度法检测薄膜的光学性能 |
| 5.1.2 TiO_2薄膜光学性能分析 |
| 5.2 膜料的蒸发特性 |
| 5.2.1 膜料蒸发特性分析 |
| 5.2.2 膜料的蒸发特性对薄膜光学性能的影响 |
| 5.2.3 薄膜形态分析 |
| 第6章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士期间发表的论文 |
四、一种新的光学薄膜元件——多通道带通滤光片（论文参考文献）
- [1]基于剥离工艺的集成双通道滤光片技术研究[D]. 张立宇. 西安工业大学, 2021(02)
- [2]中红外双通道滤波器的研制[J]. 陈旭,吴智勇,赵新潮,周兴雷,王丁. 光学仪器, 2020(01)
- [3]中波红外双通道带通滤光片的研制[J]. 王松林,米高园,张建付,杨崇民,刘青龙,王颖辉,韩俊. 激光与红外, 2017(06)
- [4]红外双色滤光片的研制及其低温光谱研究[D]. 蔡渊. 中国科学院大学(中国科学院上海技术物理研究所), 2017(02)
- [5]基于多光谱成像技术的宫颈细胞DNA定量分析[D]. 吴正. 武汉大学, 2016(06)
- [6]自由空间激光通信系统中多通道滤光膜的研制[J]. 付秀华,张于帅,寇洋,李旭娜. 中国激光, 2015(04)
- [7]探测用宽截止红外双通道帯通滤光片的设计及误差分析[J]. 陈友华,王志斌. 光学学报, 2010(10)
- [8]光学薄膜窄带滤波器的设计方法研究[D]. 段玉华. 燕山大学, 2009(07)
- [9]短波通滤光片的研究[D]. 王庆. 哈尔滨工程大学, 2006(04)
- [10]以Ti2O3为膜料反应蒸发制备TiO2光学薄膜的研究[D]. 郭爱云. 武汉理工大学, 2006(08)